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    儀器名稱: Plasma 2000 ICP光譜儀
    儀器型號: Plasma2000
    制 造 商: 鋼研納克
    原 產 地: 北京
    儀器特點技術參數儀器介紹

    穩健高效的全固態光源

        全固態射頻發生器,體積小、效率高,全自動負載匹配,速度快、精度高,能適應各種復雜基體樣品及揮發性有機溶劑的測試,具有優異的長期穩定性。

        垂直炬管的設計,具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。

        簡潔的炬管安裝定位設計,快速定位,精確的位置重現。 

        實時監控儀器運行參數,高性能CAN工業現場總線,保障通訊高效可靠。

     

    精密的光學系統

    中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構,使用超純SiO2棱鏡,高光路傳輸效率,保證了深紫外區的元素測量。

        優化的光學設計,采用非球面光學元件,改善成像質量,提高光譜采集效率。

    光室多點充氣技術,縮短光室充氣時間,提高紫外光譜靈敏度及穩定性,開機即可測量。

    光室氣路獨立,可充氮氣或氬氣。

          包圍式立體控溫系統,保障光學系統長期穩定無漂移。

     

    進樣系統

    儀器配備系列經過優化的進樣系統,可用于有機溶劑、高鹽/復雜基體樣品、含氫氟酸等樣品的測試。

    使用一體式炬管,易于維護,轉換快速,使用成本低。

    使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,流量連續可調,保障測試性能長期穩定。

    4通道12滾輪蠕動泵,泵速連續可調,確保樣品導入穩定性。

       

    檢測器

    大面積背照式CCD檢測器, 全譜段響應,高紫外量子化效率,抗飽和溢出

    具有極寬的動態范圍和極快的信號處理速度

    一次曝光,完成全譜光譜信號的采集讀取,獲得更為快速、準確的分析結果

    同類產品中最大靶面尺寸,百萬級像素,單像素面積24μm X 24μm

    三級半導體制冷,制冷溫度低于-35,具有更低的噪聲和更好的穩定性


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