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    儀器名稱: Plasma 3000 ICP光譜儀
    儀器型號: Plasma 3000
    制 造 商: 鋼研納克
    原 產 地: 北京
    儀器特點技術參數儀器介紹

    分光系統

    徑向觀測與軸向觀測設計,適應亞 ppm 到高含量的元素測量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構,使用 CaF2 棱鏡,提高光路傳輸效率。 優化的光學設計,采用非球面光學元件,改善成像質量,提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術,縮短光室充氣時間,提高紫外光譜靈敏度及穩定性,開機即可測量。 包圍式立體控溫系統,保障光學系統長期穩定無漂移。

     

    光源

    固態射頻發生器,高效穩定,體積小巧,效率高,匹配速度快,能適應各種復雜基體樣 品及揮發性有機溶劑的測試,均能獲得優異的長期穩定性。 垂直炬管的設計,具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。 冷錐消除尾焰技術,最大程度地降低自吸效應和電離干擾,從而獲得更寬的動態線性范圍和更 低的背景,保證準確的測量結果。 具有綠色節能待機模式,待機時降低輸出功率,減小氣體流量,僅維持等離子體運行,節約使 用成本。

    簡潔的炬管安裝定位設計,快速定位,精確的位置重現。 實時監控儀器運行參數,高性能 CAN 工業現場總線,保障通訊高效可靠。

     

    進樣系統

    簡潔的炬管安裝設計,自動定位炬管位置,精確的位置重現。 儀器配備系列經過優化的進樣系統,可用于有機溶劑、高鹽 / 復雜基體樣品、含氫氟酸(HF) 等樣品的測試。

    使用可拆卸式或一體式炬管,易于維護,轉換快速,使用成本低。 使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,保障測試性能長期穩定。 多通道 12 滾輪蠕動泵,提升樣品導入穩定性。

     

    檢測器

    大面積背照式 CCD 檢測器 , 全譜段響應,高紫外量子化效率,抗飽和溢出,具有極寬的動態范 圍和極快的信號處理速度。 一次曝光,完成全譜光譜信號的采集讀取,從而獲得更為快速、準確的分析結果。 同類產品中最大靶面尺寸,百萬級像素,單像素面積 24μm X 24μm,三級半導體制冷 , 制冷溫 度 低,具有更低的噪聲和更好的穩定性。

     

    軟件系統

    人性化的界面設計,流暢易懂,簡便易用,針對分析應用優化的軟件系統,無須復雜的方法開發, 即可快速開展分析操作。

    豐富的譜線庫,智能提示潛在干擾元素,幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測方式設置,直觀的測試結果顯示。

     

    安全防護

    全方位電磁屏蔽,減少電磁輻射 連鎖門保護,避免用戶誤操作可能帶來的風險 防紫外觀測窗

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