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    ICP光譜儀在使用中由于碰撞引起變寬可分為以下三種情況

    來源: 時間:2022/5/30 15:22:10 點擊:168次

    ICP光譜儀分析中的光譜干擾還包括背景干擾,與譜線重疊干擾。如果在原子化階段有高濃度基體揮發出來,以氣態分子鹽微粒,“煙霧”等形式存在于炬管中,則會產生分子吸收和光散射引起的假信號,把這種信號稱為背景吸收。背景干擾是指由連續發射形成的帶狀光譜疊加在分析線上而構成的干擾。其來源主要有:電子-離子復合輻射,軔致輻射,分子輻射,雜散光的影響等。譜線重疊干擾是指另一元素的譜線重疊或部分重疊在別的元素的分析線上而形成的干擾。

    ICP光譜儀在原子或離子中與中性粒子或帶電粒子碰撞引起變寬,有以下三種情況:
    1.共振變寬:同種原子相互碰撞引起的譜線變寬。b范德華交寬:痕量元素的粒子與氬的中性原子碰撞引起的譜線變寬。c斯托克變寬;在電場作用下,帶電粒子碰撞引起的譜帶變寬。
    2.復合輻射引起的光譜干擾,復合輻射是電子被離子俘獲過程中,以輻射形式釋放能量產生的連續光譜,它的強度隨著電子密度的升高而急劇增加。氬等離子體中電子密度較大,故要考慮這種背景的影響,特別是對痕量元素的分析。
    3.基體元素的強烈發射造成的散射光引起的光譜干擾。典型的是靈敏度較高的堿土金屬Ca、Mg在高濃度時由于強烈發射造成的散射效應對鄰近譜線的影響,散射光使背景加深,從而降低了信噪比。

    ICP光譜儀包括以下幾個主要部分:
    1、入射狹縫:在入射光的照射下形成光譜儀成像系統的物點。
    2、準直元件:使狹縫發出的光線變為平行光。該準直元件可以是一獨立的透鏡、反射鏡、或直接集成在色散元件上,如凹面光柵光譜儀中的凹面光柵。
    3、色散元件:通常采用光柵,使光信號在空間上按波長分散成為多條光束。
    4、聚焦元件:聚焦色散后的光束,使其在焦平面上形成一系列入射狹縫的像,其中每一像點對應于一特定波長。
    5、探測器陣列:放置于焦平面,用于測量各波長像點的光強度。該探測器陣列可以是ccd陣列或其它種類的光探測器陣列。
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